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Techwiz LCD 2D新的Lens掩膜結構1. 摘要Techwiz LCD 2D新增Lens掩膜結構，可以方便快捷的對LC 透鏡進行建模分析。 LC透鏡由于體積小、焦距可變等優點，被認為是光學系統中一個很有前景的研究領域。在有限的空間內改變焦距是可能的，因為LC材料的折射率可以通過施加電壓來調節。

建模過程2.1使用TechWiz Layout繪制各層掩模版平面圖2.2創建堆棧結構，并生成3D結構2.3 使用TechWiz LCD 3D進行各項參數計算3.

? 狹縫模擬（a）極坐標圖（b）顏色輪廓（c）衍射強度? 液晶相位光柵模擬（d）TRN數據 （e）極坐標圖（f）衍射效率（g）圖像分析? 智能窗（h）液晶指向矢分布和相位差曲線 （i）衍射效率，POM圖像，以及衍射圖樣[1] C.-H. Han, T.-H. Choi, W.-S. Kim, S.

建模過程2.1使用TechWiz Layout繪制各層掩模版平面圖2.2創建堆棧結構，并生成3D結構2.3 使用TechWiz LCD 3D進行各項參數計算3.

對于IPS、FFS等結構來說，其像素電極和公共電極在同一平面，因此不能用TechWiz LCD 1D軟件來仿真，需要至少能進行2維模擬的軟件，本案例使用TechWiz LCD 2D來模擬一下單疇IPS結構。1. 建模任務1.1 模擬條件模擬區域：0~10um邊界條件：Periodic偏移角度：0°單位長度：0.5um1.2堆棧結構2.

我們使用TechWiz LCD 1D模擬一下菲涅爾反射。1. 創建材料使用TechWiz DB創建所需材料2. 搭建結構使用TechWiz LCD 1D建立結構3. 結果分析3.1正入射下厚度與反射率關系曲線3.2視角與反射率關系曲線

在LC透鏡結構中，可以通過TechWiz Ray 2D進行光程差和焦距的計算，并進行高級LC分析，包括LC指向矢隨外加電壓的分布。1. 建模任務1.1 模擬條件模擬區域：0~200邊界條件：Periodic偏移角度：0°單位長度：0.51.2堆棧結構2. 建模過程2.1創建堆棧結構2.2修改各層參數和創建掩膜3.

TechWiz Polar是TechWiz LCD 1D的一個可選模塊TechWiz Polar根據各層的相位延遲對偏振狀態進行優化設計和分析。從需要了解偏振光的用戶到顯示行業的專業人士，使用這款軟件都能有很大的幫助1. 堆棧結構堆棧層及層信息2. 創建材料在TechWiz DB中創建1/4波片3.

我們可以在TechWiz LCD 2D軟件中調整電極的寬度，錐度，厚度和位置。 1. 案例結構 2.

建模過程2.1創建材料（TechWiz DB）2.2創建堆棧結構（TechWiz LCD 1D）3.查看結果3.1反射率最小對應厚度為0.1127um，與理論計算結果相符3.2可以將膜厚與膜層折射率同時作為變量考慮，可見厚度0.1127um，折射率N=1.22時，其反射率最低3.3可以查看詳細的原始數據，確定反射率的具體數值

造成mura現象的原因有很多種，本案例使用TechWiz LCD 1D仿真一種彩虹紋，在常規四疇VA結構下加入高延遲膜后，模擬其彩虹mura的現象。1. 建模任務1.1堆棧結構2. 建模過程2.1創建材料2.2創建堆棧結構3.

VA模式是液晶顯示器常見的幾種顯示模式之一，其特點是液晶分子垂直配向，這種面板對比度比較好，價格也比較便宜，通常用在電視上，接下來我們就來模擬一下簡單的單疇VA結構1. 堆棧結構堆棧層及層信息2. 建模過程2.1創建堆棧結構2.2更改參數設置3. 結果分析3.1電壓與透過率關系曲線3.2視角透過率的極坐標圖

結果分析3.1 指向矢分布和透過率3.2所有疇的V-T曲線3.3不同電壓透過率圖，為了方便查看，對每一個電壓下的圖例范圍都初始化，請注意圖例顏色軸的范圍

建模過程2.1創建新的項目文件2.2 使用材質或層定義 1D 結構2.3 設置和編輯膜層的屬性(Emitter)3. 結果分析? 極坐標圖結果? 等高線圖結果

結果分析3.1 不同θ的反射率3.2視角透過率3.3顏色輪廓

結果分析3.1 V-T曲線3.2視角透過率3.3顏色輪廓

建模過程2.1創建新的項目文件2.2 使用材料或層定義 1D 結構2.3 設置和編輯膜層的屬性2.4 設置計算結果數據的輸出標準和模擬條件3. 結果分析? 等值線圖結果

或者，參考文獻[3]顯示了如何使用Lumerical FDTD軟體為給定的相位曲線設計超穎透鏡。這種方法的缺點是設計人員可能無法檢查整個系統的性能。例如，沒有辦法考慮所有繞射階數來檢查點擴展函數（PSF）。類似地，儘管可以追蹤“非有效”的順序光線，但沒有計算出繞射效率，因此沒有辦法知道雜散光路中的功率比。

工程師可以通過快速精確的仿真算法，根據布局結果分析電勢分布和電容輪廓。分割模擬區域指紋的電容

制造顯示面板的主要挑戰之一是研究由工藝余量引起的主要因素，如CD余量，掩膜錯位和厚度變化。TRCX提供批量模擬和綜合結果，包括分布式計算環境中的寄生電容分析，以改善顯示器的電光特性并最大限度地減少缺陷。（a）參照物（b）膜層未對準